電子工業超純水設備
發布時間：2020/07/27
工業制造中，很多電子元件生產過程中需要大量超純水，且對水質要求特別嚴苛。隨著工業技術的發展，電子元件的尺寸的縮小和精細程度的提高，對超純水的水質水量的要求日趨嚴格。ITRS(國際半導體技術藍圖)中規定的侵入式光刻技術中需要的浸沒式超純水，水質要求超過了國標中規定的電子水最高要求。
超純水的電阻率、微粒子、氣泡(溶解氧，溶解氮)和 TOC是非常重要的指標，略微差異可能導致元件生產過程的產品質量和合格率的下降，所以超純水的制備技術在工業的發展中是非常重要的。
玻璃廠半噸超純水設備
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